Оригинал материала: https://3dnews.ru./1108975

Китай почти достиг «базовой самодостаточности» в производстве оборудования для выпуска чипов

Несмотря на санкционную политику США и западных стран, Китай активно развивает полупроводниковую индустрию. Глава компании AMEC по производству оборудования для травления кремниевых пластин Джеральд Ин Чжияо (Gerald Yin Zhiyao) заявил, что «базовой самодостаточности» в производстве оборудования для микросхем Китай может достичь этим летом, но он отстаёт на 5–10 лет по качеству и надёжности, пишет ресурс SCMP.

 Источник изображения: amec-inc.com

Источник изображения: amec-inc.com

«Я думал, что нам понадобится не менее 10 лет, чтобы найти решение, но благодаря совместным усилиям сотен компаний в течение последних двух лет мы сможем достичь базовой самодостаточности этим летом», — сказал 80-летний Инь, ранее работавший в Intel, Lam Research и Applied Materials.

США наращивают санкционное давление на китайский сектор производства микросхем с октября 2022 года, когда они впервые ограничили экспорт оборудования китайским производителям передовых микросхем. В октябре прошлого года США ещё больше ужесточили правила экспортного контроля, запретив ASML продавать ещё ряд литографических систем для производства чипов китайским клиентам.

Вводимые ограничения заставили китайских поставщиков объединиться, чтобы найти точки роста, что открыло для них новые возможности. По словам главы AMEC, в настоящее время 60 % деталей, используемых в оборудовании для травления, производимом его компанией, закупаются внутри страны. А доля компонентов из местных источников в её оборудовании для химического осаждения из паровой фазы металлоорганических соединений достигает 80 %.

Вместе с тем Инь отметил, что в секторе оборудования для производства чипов Китай всё ещё сильно отстаёт от мировых лидеров. По его оценкам, на отечественное оборудование на китайских заводах по выпуску чипов приходится от 15 до 30 %, остальное — зарубежное. В числе слабых мест китайских фирм Инь назвал системы литографии, оборудование для ионной имплантации и системы электронно-лучевого контроля.



Оригинал материала: https://3dnews.ru./1108975