В России разработают софт для проектирования 28-нм чипов только после 2030 года

К 2030 году в России создадут более сотни систем автоматизированного проектирования (САПР) электроники, в том числе планируется и разработка систем для создания микросхем по нормам 28 нм, говорится в представленной Минпромторгом «дорожной карте». Некоторые из САПР потребуют доступа к производству, которого пока в России нет, говорят опрошенные «Коммерсантом» эксперты, но к 2030 году данный вопрос уже должен быть решён.

Источник изображения: Maxence Pira / unsplash.com

«Дорожную карту» по развитию российских САПР электроники и микроэлектроники накануне представил на конференции «Микроэлектроника 2024» директор департамента цифровых технологий Минпромторга Владимир Дождёв. К 2030 году будут проданы 2,6 тыс. единиц такого ПО, предполагают в ведомстве, а после 2030 года в САПР будет использоваться искусственный интеллект. В 2030 году также планируется начать разработку средств проектирования микросхем по техпроцессу 28 нм — ведущие мировые производители освоили его в 2010 году; он использовался, например, в процессорах Apple A7, что устанавливались на iPhone 5S. Решений для производства чипов по этой технологии в России пока нет.

Научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы (НИОКР), согласно дорожной карте, до 2030 года обойдутся в 54,6 млрд руб. Совокупная выручка от реализации 12 поднаправлений САПР к тому же 2030 году составит 7,2 млрд руб., из которых 3,6 млрд достигнет выручка за продажу программ для проектирования чипов. Сейчас отечественные разработчики пользуются ПО Synopsys и Cadence, но зарубежные компании отказываются поддерживать его для российских клиентов. В первую очередь, заявили в Минпромторге, российские САПР должны поддерживать уже освоенные в стране техпроцессы, и самым передовым пока является 90 нм на заводе «Микрон». «Но САПР сам по себе универсален и способен работать со средствами проектирования не только отечественных фабрик», — добавили в ведомстве.

Российские производители выразили заинтересованность в отечественном САПР, если он действительно будет решать задачи заказчика. Но в микроэлектронике САПР имеет несколько разновидностей: системный уровень (описание архитектурного решения), логический (логическое описание функциональных блоков) и физический (физическая топология микросхемы). И если в первых двух случаях потребуются десятки разработчиков и годы работы, то в третьем необходим также доступ к фабрике-производителю для верификации решений. Сейчас в России доступны технологии 250 и 180, а также тестовые 90 нм. Завода, способного работать по нормам 28 нм, пока нет, но к 2030 году вопрос, возможно, будет решён.