Литография со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) способна заметно удешевить производство 7-нм и более совершенных полупроводниковых компонентов, поэтому санкции США против Китая направлены на ограничение доступа последней из стран к таким технологиям. Как выясняется, китайские производители оборудования создают свои решения для работы с EUV.

Источник изображения: ASML

Во всяком случае, об этом позволяет судить патентная заявка на «Генераторы экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) и оборудование для литографии», поданная в КНР шанхайской компанией SMEE ещё в марте прошлого года. Как сообщает South China Morning Post, документ описывает принципы устройства литографического оборудования, предназначенного для работы с источниками сверхжёсткого ультрафиолетового излучения. Информация о регистрации такой патентной заявки стала известна только на этой неделе.

До сих пор SMEE удавалось создавать только литографические сканеры, пригодные для работы с 28-нм и более грубыми технологическими нормами. Если китайская компания освоит выпуск EUV-сканеров, это существенно сократит отставание китайских производителей чипов от зарубежных конкурентов. Лидером в сфере поставок литографического оборудования является нидерландская компания ASML. Китайские производители чипов пока на 99 % зависят от зарубежных поставщиков, среди которых числятся компании из Нидерландов, США и Японии. Все три страны ограничивают поставку EUV-оборудования в Китай, причём Нидерланды такие меры ввели ещё в 2019 году.

С текущего месяца власти Нидерландов требуют от работающих в юрисдикции этой страны компаний получать экспортные лицензии на поставку запасных частей для установленного в Китае оборудования ASML, а также программного обновления эксплуатируемых китайскими клиентами систем. Сервисное обслуживание данного оборудования тоже фактически запрещено.

Непосредственно шанхайская компания SMEE в санкционный список США попала ещё в декабре 2022 года, что лишило её возможности использовать в создаваемом оборудовании технологии и компоненты американского происхождения. По всей видимости, компания решила самостоятельно создать оборудование для изготовления чипов с использованием EUV-литографии. Последняя подразумевает длину волны лазера 13,5 нанометра, что почти в 14 раз меньше присущего DUV-оборудованию параметра 193 нанометра. Китайская SMIC, как принято считать, выпускает для Huawei 7-нм чипы с помощью DUV-оборудования и многочисленной и громоздкой оснастки. Итоговая продукция получается довольно дорогой из-за высокого уровня брака. Переход на полноценное оборудование класса EUV позволил бы китайским производителям чипов экономить время и деньги при его эксплуатации.

TSMC удалось опередить Intel в запуске массового производства на EUV-оборудовании, но в более продвинутом сегменте High-NA EUV компания отстала от своего американского конкурента. Intel уже пользуется машиной High-NA EUV от ASML для проведения исследований и разработки, а TSMC начнёт установку первого такого сканера лишь в этом месяце, узнали DigiTimes и United Daily News.

Источник изображения: asml.com

Первая установка со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением и высокой числовой апертурой (High-NA EUV) ASML Twinscan EXE:5000, построенная специально для применения в целях исследования и разработки, будет устанавливаться в центре TSMC в тайваньском Синьчжу. В сентябре крупнейший в мире полупроводниковый подрядчик начнёт получать компоненты машины, после чего несколько месяцев потребуются на сборку и калибровку оборудования, прежде чем на нём станет тестироваться технология производства полупроводников нового поколения.

Перспективные технологические процессы TSMC N2 (класс 2 нм) и A16 (класс 1,6 нм) будут работать исключительно на EUV-оборудовании с низкой числовой апертурой 0,33. Сканер High-NA EUV (числовая апертура 0,55) будет использоваться для техпроцесса A14 (класс 1,4 нм) ориентировочно в 2028 году, хотя официальных заявлений компании по этому поводу пока не последовало. Но его внедрение вызовет дополнительные сложности как у производителей, так и у разработчиков, поэтому TSMC не спешит с развёртыванием таких сканеров.

Ещё один аргумент не в пользу машин нового поколения — их цена, которая, как заявил ответственный за разработку новых технологических процессов в TSMC Кевин Чжан (Kevin Zhang), понравилась ему меньше, чем производительность. Каждая машина High-NA стоит около $400 млн, хотя президенту компании Си-Си Вэю (C.C. Wei) и удалось договориться о скидке в размере почти 20 % при покупке нескольких единиц оборудования сразу. Учитывая, что TSMC является ведущим производителем, использующим EUV-литографию, и в её распоряжении находятся 65 % мировых EUV-мощностей ASML, нидерландский производитель, конечно, склонен идти на сделки с заводом, который является одним из его крупнейших клиентов.

В конце прошлой недели власти Нидерландов решили синхронизировать свои правила экспортного контроля с американскими, в результате чего в них были включены две дополнительные модели литографических сканеров ASML для выпуска чипов. Китайские власти предсказуемо выразили недовольство подобным решением нидерландских властей, но одновременно выступили и с критикой политики США.

Источник изображения: ASML

Китайский министр торговли заявил следующее: «В последние годы ради поддержания мировой гегемонии, США продолжали принуждать определённые страны усиливать меры экспортного контроля в сфере полупроводников и профильного оборудования. Китай решительным образом против этого». По мнению китайского чиновника, нидерландская сторона не должна злоупотреблять правилами экспортного контроля, избегать мер, которые вредят сотрудничеству с Китаем в сфере полупроводников, а также защищать общие интересы китайских и нидерландских компаний.

Напомним, что нидерландская коллега китайского министра объяснила принятые новые ограничения соображениями национальной безопасности. Отныне для поставок DUV-систем моделей Twinscan NXT:1970i и NXT:1980i в недружественные страны экспортёры оборудования должны получать экспортную лицензию у властей Нидерландов, а не в США, но сути ограничений это не меняет. Западная коалиция полагает, что с помощью такого оборудования китайские компании способны изготавливать достаточно продвинутые 7-нм и 5-нм чипы. Опасения по поводу возможности их применения в системах вооружений и объясняют связь таких запретов с доводами о национальной безопасности.

Смелые для современной политической конъюнктуры заявления нового руководителя ASML заявления о характере экспортных ограничений США не помешали компании подчиниться новым требованиям властей Нидерландов, которые расширили перечень контролируемых с точки зрения поставок в недружественные страны литографических сканеров на две модели.

Источник изображения: ASML

Поскольку ASML не успела поставить в Китай ни одной передовой EUV-системы «благодаря» введённым властями Нидерландов ограничениям в 2019 году, внимание американских регуляторов с тех пор сосредоточилось на менее совершенном оборудовании, предназначенном для работы с глубоким ультрафиолетовым излучением и методом иммерсионной литографии (DUV). Наиболее продвинутые системы Twinscan NXT:2000i этого типа ограничивались в поставках в недружественные страны типа Китая с сентября прошлого года, но в США и Нидерландах существовало разногласие по поводу включения в этот перечень систем Twinscan NXT:1970i и NXT:1980i, которые используют DUV-литографию и позволяют выпускать чипы по нормам 5 и 7 нм.. Американцы считали, что подобные поставки нужно согласовывать с ними из-за наличия в составе оборудования компонентов, использующих разработанные в США технологии.

В Нидерландах ограничения на экспорт двух моделей литографических сканеров, указанных выше, вступили в силу только сегодня, и теперь правила контроля двух стран синхронизированы. Более того, теперь желающие поставить указанное оборудование в Китай или другую недружественную страну компании должны будут получать экспортную лицензию не в США, а в Нидерландах. Компания ASML, которая эти системы производит, не считает изменения в правилах экспортного контроля настолько существенными, чтобы они могли повлиять на её прогноз по выручке на 2024 год.

Министр внешней торговли Нидерландов Ренет Клевер (Reinette Klever) данный шаг прокомментировала следующим образом: «Это решение было принято по соображениям безопасности. Мы видим, что технологический прогресс увеличил риски безопасности, связанные с экспортом конкретного производственного оборудования, особенно в текущем геополитическом контексте». По словам чиновницы, выдающееся положение Нидерландов в сфере производства оборудования для выпуска чипов накладывает на страну определённую ответственность, и вводимые ограничения носят адресный и взвешенный характер. Они не должны нарушить товарооборот и цепочки поставок в мировой полупроводниковой промышленности.

В этом году у руля крупнейшего в мире поставщика литографических сканеров — нидерландской компании ASML, стал Кристоф Фуке (Christophe Fouquet), и свои взгляды на текущую ситуацию с ограничением экспорта в Китай передового оборудования для выпуска чипов он выражает довольно открыто. По его мнению, в американских экспортных ограничениях становится всё больше экономических мотивов, нежели защиты нацбезопасности.

Забота о национальной безопасности при этом постепенно уходит на второй план, как дал понять генеральный директор ASML во время своего выступления на технологической конференции Citi в Нью-Йорке. По его словам, приводимым агентством Reuters, принимаемые США меры будут встречать всё больше сопротивления: «Считаю, что становится всё сложнее связать эти действия с вопросами национальной безопасности». Скорее всего, давление (на партнёров США) в сфере введения новых ограничений против Китая будет усиливаться, как считает Фуке, но оно будет натыкаться на растущее сопротивление. Глава ASML надеется, что будет достигнут некоторый баланс интересов, поскольку «бизнес стремится к большей ясности и большей стабильности».

Для Нидерландов бизнес ASML имеет особое значение, поскольку компания является одной из крупнейших в технологическом секторе всей Европы. Премьер-министр страны Дик Схоф (Dick Schoof) на прошлой неделе подчеркнул важность защиты экономических интересов ASML. Компания сейчас получает почти половину своей выручки в Китае, и новые запреты США на поставку в этот регион оборудования её производства способны чувствительно ударить по бизнесу.

Нидерландские власти планируют ограничить деятельность ASML по ремонту и обслуживанию оборудования для полупроводникового производства в Китае, что нанесёт очередной болезненный удар по способности КНР развивать индустрию полупроводников мирового класса.

Источник изображений: asml.com

Как ожидается, правительство Нидерландов не станет продлевать некоторые лицензии ASML на обслуживание оборудования в Китае и поставку запчастей — срок действия разрешений истекает в конце 2024 года, пишет Bloomberg со ссылкой на собственные источники. Решение коснётся машин, работающих с глубоким ультрафиолетом (DUV). Самое передовое в отрасли оборудование нидерландской компании продаётся с соглашениями о техническом обслуживании, которое необходимо для поддержания его работы. Отзыв такой поддержки приведёт к тому, что уже в следующем году часть этих машин выйдет из строя.

Решение нидерландских властей было принято под давлением со стороны США. Вашингтон поднял вопрос о возможности введения определённых односторонних мер в отношении стран-партнёров, включая правило прямых иностранных поставок, если эти союзники не согласятся привести свои нормы экспортного контроля в соответствие с американскими стандартами, сообщили Bloomberg в Белом доме. Правило FDPR (Foreign Direct Product Rule) позволяет американским чиновникам контролировать потоки иностранных товаров, если в них используется хотя бы минимальный набор американских технологий. Крупнейшими игроками в производстве полупроводников, помимо США, являются Нидерланды, Япония и Южная Корея. Бывший премьер-министр Нидерландов Марк Рютте (Mark Rutte) находил возможности сопротивляться давлению со стороны США, а его преемник, бывший глава разведки Дик Схооф (Dick Schoof) демонстрирует более осторожный подход в отношениях с Китаем.

Китай же пока вынужден пользоваться DUV-оборудованием ASML, поскольку не смог самостоятельно разработать его аналогов. Более прогрессивные EUV-сканеры на сверхжёстком ультрафиолетовом излучении в Китай не поставлялись никогда. Они используются, в частности, для выпуска передовых чипов Apple и Nvidia. Без оборудования DUV китайскому технологическому лидеру Huawei и его партнёру SMIC будет значительно сложнее развивать собственные мощности, которые, по оценкам экспертов, на два поколения отстают от лидера отрасли TSMC.

Действия нидерландских властей повлияют и на объёмы продаж ASML, около половины которых поступают из Китая. Техобслуживание оборудования является неотъемлемой частью повседневной работы завода по производству микросхем — инженеры ASML и Applied Materials присутствуют на предприятиях крупных клиентов, включая TSMC, где они помогают в решении проблем в реальном времени. Сотрудники ASML присутствуют и на китайских заводах, а вот американским компаниям пришлось отозвать с них своих работников из-за санкций. Не менее важна и возможность поставлять запчасти для оборудования — выход его из строя заставит производителя полупроводников сократить объёмы выпуска.

В декабре прошлого года делегация руководителей Samsung Electronics в Нидерландах договорилась с коллегами из ASML о строительстве исследовательского центра в Южной Корее, а также расписала график закупки передового оборудования на десять лет вперёд. С тех пор в отвечающем за электронные устройства подразделении Samsung сменилось руководство, и оно уже не так оптимистично смотрит на программу закупки сканеров у ASML.

Источник изображения: Samsung Electronics

Как поясняет издание Business Korea, первоначальные договорённости с ASML подразумевали, что Samsung в течение десяти лет закупит не менее трёх литографических сканеров ASML в каждой из линеек Twinscan EXE:5200, EXE:5400 и EXE:5600. Теперь же, как стало известно корейским источникам, Samsung в этом месяце уведомила ASML о намерениях ограничить ассортимент закупаемых литографических систем некоторым количеством Twinscan EXE:5200, и не торопиться с приобретением последующих моделей.

Более того, Samsung приостановила подготовку к строительству исследовательского центра в корейском Хвасоне, который должен был принять всё это оборудование. Официальные представители Samsung Electronics подтвердить информацию не пожелали, отметив, что в планах компании по приобретению оборудования класса High-NA EUV компании ASML ничего не изменилось. «Совместный исследовательский центр двух компаний будет расположен в оптимальном месте», — добавили они.

Неофициальные источники связывают подобные назревающие изменения в курсе Samsung с майским назначением на должность главы подразделения Device Solutions Чон Ён Хёна (Jun Young-hyun), поскольку первоначальные договорённости с ASML были достигнуты ещё его предшественником. Возможно, как только новое руководство подразделения определится с долгосрочными планами, сотрудничество с ASML будет возобновлено на новых условиях, если это потребуется.

Южнокорейская компания Samsung Electronics не только остаётся крупнейшим производителем памяти, но и не оставляет амбиций в сфере контрактного производства логических компонентов. Ради движения в ногу с прогрессом она собирается вслед за Intel получить к концу этого года литографический сканер ASML TwinScan EXE:5000, который позволяет работать с высоким значением числовой апертуры (High-NA).

Источник изображения: ASML

Intel является крупнейшим клиентом ASML на этом направлении и пытается выкупить все доступные для заказа на этот год подобные системы, но намерения Samsung показывают, что при определённой настойчивости корейская компания тоже может получить свою первую литографическую систему класса High-NA EUV к концу текущего года или в первом квартале следующего. Подобное оборудование должно позволить Samsung не только наладить выпуск чипов по технологиям «тоньше» 2 нм, но и делать это с более низкой себестоимостью. Правда, сам литографический сканер такого класса стоит не менее $380 млн, а ещё он занимает больше места, поэтому внедрение такого оборудования потребует не только высоких первоначальных затрат, но и смены подхода к планировке цехов.

Попутно южнокорейские СМИ сообщают, что Samsung призналась в наличии у неё средств инспекции фотомасок японской марки Lasertec, которые адаптированы к технологии High-NA EUV. Если всё пойдёт по плану, Samsung сможет наладить выпуск первых прототипов продукции на оборудовании такого класса к середине следующего года. Впрочем, в массовом производстве технология High-NA EUV будет освоена компанией ближе к 2027 году.

Samsung в сотрудничестве с Synopsys также внедряет иной «рисунок» элементов полупроводниковых чипов, который предполагает переход от прямых линий к кривым. Это позволит создавать более плотные структуры на чипах и продвинуться в освоении более «тонких» техпроцессов. Компания TSMC также рассчитывает получить до конца года от ASML свой первый литографический сканер класса High-NA EUV, но внедрить подобное оборудование в массовом производстве чипов по технологии A14 планирует не ранее 2028 года.

Не только компания Intel активно приобретает у ASML литографические системы с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV). Один из первых сканеров такого класса расположился в лаборатории ASML и Imec в Нидерландах, и недавно последняя смогла изготовить тестовые чипы с рекордно малыми размерами элементов за один проход, доказав эффективность оборудования класса High-NA EUV.

Источник изображения: Imec

Используя литографическую систему Twinscan EXE:5000 и подготовленную для неё партнёрами оснастку с новыми материалами, Imec изготовила несколько тестовых полупроводниковых структур, обладающих рекордно малыми размерами. В частности, образец логического компонента с металлизированными слоями продемонстрировал размеры элементов не более 9,5 нм с шагом между ними 19 нм, а расстояние по вершинам не превысило 30 нм. Специалистам Imec удалось за один проход создать образец чипа со сквозными отверстиями, расположенными на расстоянии 30 нм друг от друга. Массив отверстий получился регулярным, сами они имели однородную форму и размеры. В рамках экспериментов по созданию длинных двумерных элементов удалось выдержать расстояние между ними не более 22 нм.

Были созданы и структуры, повторяющие ячейки памяти. Это особенно важно с учётом интереса к оборудованию класса High-NA EUV со стороны крупных производителей памяти в лице Samsung, SK hynix и Micron. Если Intel до конца этого года получит уже второй литографический сканер с высоким значением числовой апертуры (0,55), то TSMC рассчитывает получить только первый, причём использовать подобное оборудование в массовом производстве она рассчитывает начать не ранее 2028 года, когда освоит техпроцесс A14.

Imec особо подчёркивает, что успех экспериментов с данным типом оборудования ASML открывает дорогу клиентам компании к началу проектирования продукции, при производстве которой оно будет использоваться. Соответственно, поставщики оснастки и расходных материалов тоже учтут данный опыт в расширении ассортимента своей продукции. Переход на новый класс литографического оборудования сократит количество проходов при экспозиции фотомасок, повысив производительность линий по выпуску чипов. Проблемой пока остаётся только высокая стоимость таких сканеров, поскольку один стоит около 350 млн евро.

Нидерландская ASML, которая выпускает оборудование для производства чипов, может быть освобождена от новых ограничений на экспорт своей продукции в Китай, сообщила сегодня Reuters. В результате акции компании подорожали на 7%.

Источник изображения: asml.com

США рассматривают возможность ужесточить санкции в отношении Китая и других стран, позволив своим регуляторам контролировать поставки оборудования, в котором используются американские технологии. Но союзники США, которые поставляют оборудование для производства микросхем, включая Нидерланды, Южную Корею и Японию, будут освобождены от необходимости следовать новым нормам. Инициатива коснётся таких стран как Израиль, Тайвань, Сингапур и Малайзия — на Тайване, например, расположены штаб-квартира и заводы TSMC, крупнейшего в мире полупроводникового подрядчика.

Проект закона о прямых зарубежных поставках гласит, что любая компания, которая производит полупроводниковую продукцию и хотя бы отчасти использует при этом американские технологии, не сможет экспортировать эту продукцию в Китай. Это правило будет распространяться и на иностранные компании, поскольку они часто задействуют американские решения.

Нидерландская ASML является важнейшим игроком в области производства проводников, поскольку её оборудование используется для выпуска самых передовых в мире микросхем — её акции после сообщения Reuters подскочили на 7 %. На те же 7 % подорожали ценные бумаги Tokyo Electron — японского производителя полупроводникового оборудования. Подорожали также акции корейских SK hynix и Samsung, правда, рост последней может быть также связан с опубликованным сегодня положительным финансовым отчётом.

Производители полупроводниковых компонентов используют так называемую EUV-литографию лишь на определённых этапах технологического процесса, их количество от поколения к поколению возрастает. Так, если Samsung при производстве 3-нм чипов ограничивалась 20 слоями с EUV, то после перехода на 2-нм техпроцесс их количество вырастет на 30 %.

Источник изображения: Samsung Electronics

Об этом со ссылкой на собственные источники на прошлой неделе сообщило южнокорейское издание The Elec. Другими словами, в рамках 2-нм технологии Samsung будет применять литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением для обработки примерно 27 слоёв. Для сравнения, TSMC при производстве чипов по техпроцессу N3 обрабатывает с помощью EUV-литографии 25 слоёв. По данным корейских источников, после перехода в 2027 году на выпуск 1,4-нм чипов компания Samsung рассчитывает обрабатывать по методу EUV более 30 слоёв.

Соответственно, все эти планы подразумевают, что Samsung потребуется больше литографических сканеров, а также сопутствующей оснастки, рассчитанной на работу с EUV-литографией. Крупнейший поставщик такого оборудования, нидерландская ASML, намеревается за ближайшие два года отгрузить клиентам около 70 соответствующих сканеров, каждый из которых стоит более $100 млн. Потребность производителей чипов в капитальных затратах вырастет после перехода на оборудование с высоким значением числовой апертуры (High-NA), поскольку соответствующий сканер будет обходиться в $300 млн. Наиболее активным покупателем этих сканеров станет Intel, а вот TSMC не торопится внедрять данную технологию именно из экономических соображений.

Нидерландская компания ASML является крупнейшим в мире поставщиком литографических сканеров, без которых в современных условиях невозможен выпуск передовых полупроводниковых компонентов. По итогам второго квартала ей удалось увеличить портфель заказов на 24 % до 5,6 млрд евро, а выручка и чистая прибыль компании превзошли ожидания аналитиков.

Источник изображения: ASML

Как водится, динамику основных финансовых показателей ASML в прошлом квартале аналитики старались обосновать ростом спроса на оборудование для производства чипов, используемых в составе систем искусственного интеллекта. Технически, выручка ASML по итогам второго квартала сократилась на 9,5 % в годовом сравнении до 6,24 млрд евро, но эта сумма всё равно оказалась выше ожидаемых рынком 6,03 млрд евро. Чистая прибыль компании также сократилась на 18,7 % в годовом сравнении до 1,58 млрд евро, но оказалась выше заложенных в прогноз инвесторов 1,43 млрд евро.

Не менее важным для оценки динамики развития бизнеса компании оказался параметр общей стоимости оборудования, которое ASML собирается в дальнейшем поставить своим клиентам. Сумма заказов выросла по итогам второго квартала на 24 % год к году до 5,6 млрд евро, а последовательно она увеличилась на все 54 %. Ранее представители ASML называли 2024 год «переходным периодом», который будет характеризоваться последствиями затоваривания рынка, вызванного пандемией. Прогноз по выручке на текущий год руководство ASML при публикации результатов второго квартала оставило без изменений (на уровне предыдущего года), в текущем квартале компания рассчитывает выручить от 6,7 до 7,3 млрд евро. Это меньше, чем те 7,5 млрд евро, на которые рассчитывали аналитики.

Новый генеральный директор ASML Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) заявил: «Хотя на рынке присутствуют факторы неопределённости, в основном вызванные состоянием макроэкономики, мы всё равно рассчитываем на восстановление спроса во второй половине года». По мнению руководителя компании, в следующем году полупроводниковая отрасль вступит в цикл восстановления и подъёма. Соответственно, ASML придётся подготовиться к строительству нескольких новых предприятий по выпуску чипов по всей планете, которые возводятся несколькими клиентами компании. Все эти клиенты будут получать от ASML соответствующие технологические системы. Кроме того, как отметил глава ASML, сейчас рост спроса в полупроводниковой отрасли обусловлен преимущественно сегментом систем искусственного интеллекта. Прочие сегменты рынка пока лишь следуют за ним с точки зрения скорости восстановления спроса. По крайней мере, в актуальном портфеле заказов ASML примерно половина суммы приходится на стоимость оборудования, пригодного для выпуска чипов с использованием передовой EUV-литографии.

Ранее ASML предупреждала, что введённые прошлой осенью властями США санкции против Китая лишат её от 10 до 15 % всей выручки. В контексте вероятного усугубления данных санкций в этом году соответствующих комментариев от руководства ASML пока не последовало. Зато фондовый рынок на угрозу новых санкций отреагировал молниеносно — курс акций ASML в Амстердаме упал на 7,7 % до 903 евро за штуку, максимально с октября 2022 года.

Для ASML китайский рынок продолжает оставаться одним из важнейших, поскольку во втором квартале он обеспечил её почти половиной (49 %) всей выручки (€2,3 млрд), а последовательный рост выручки компании в Китае достиг 21 %. Кстати, 49 % выручки ASML китайское направление формирует уже второй квартал подряд, а до уровня в 46 % оно вырастало в третьем квартале прошлого года, когда стало известно о готовящихся очередных санкциях против Китая. Под давлением США власти Нидерландов запретили с начала этого года компании ASML поставлять в Китай ряд литографических сканеров класса DUV, с помощью которых, как считают американские чиновники, китайские производители сохраняют возможность выпускать достаточно продвинутые по меркам местной отрасли чипы. Обслуживание купленного ранее китайскими клиентами оборудования ASML продолжает, и это вызывает отдельное недовольство в США. Самые передовые литографические системы класса EUV компания ASML не может продавать в Китай ещё с 2019 года, когда власти Нидерландов превентивно ввели соответствующие ограничения.

В Нидерландах осуществляет свою деятельность крупнейший в мире поставщик литографических сканеров, необходимых для выпуска полупроводниковой продукции — компания ASML. Она полагается на мигрантов не только в своей производственной деятельности, но и в сфере подготовки будущих кадров, и противостояние США и Китая начало создавать проблемы в этой области.

Источник изображения: ASML

В прошлом году, как отмечает Bloomberg со ссылкой на главу Технологического университета в Эйндховене Роберта Яна Смитса (Robert-Jan Smits), посол США в Нидерландах обратился к руководству вуза с требованием разъяснить, почему среди студентов так много выходцев из Китая. Это учебное заведение расположено в пяти минутах от штаб-квартиры ASML, оно тесно сотрудничает с этой компанией и располагает собственной лабораторией, оснащённой новейшим литографическим оборудованием для обучения студентов. Более четверти учащихся вуза являются иностранцами, но определить долю китайцев среди них руководство университета затрудняется.

Как справедливо отметил Смитс, власти США в период с 2021 года непрерывно увеличивали количество студенческих виз, выдаваемых гражданам Китая для обучения в американских вузах. Он не отрицает, что Нидерланды вынуждены защищать свои интересы в сфере национальной безопасности, но призывает к более здравому подходу к идентификации рисков. Университет проводит тщательную проверку преподавательского состава на предмет угроз промышленного шпионажа, по требованию властей китайским студентам также запретили проходить стажировку на предприятиях отрасли, которая была предусмотрена программой подготовки и рассчитывалась сроком на один год.

Власти Нидерландов до сих пор обсуждают законопроект, который запретит подготовку китайских студентов на специальностях, имеющих отношение к чувствительным для национальной безопасности сферам деятельности. Новый премьер-министр страны Дик Схоф (Dick Schoof), по всей видимости, разделяет некоторые опасения в отношении Китая, поэтому запреты наверняка будут утверждены правительством. При этом для самой ASML китайский рынок остаётся важнейшим с точки зрения сбыта продукции, ибо в первом квартале в КНР компания выручила в восемь раз больше средств, чем в США, и больше, чем в регионе EMEA и Южной Корее вместе взятых.

В этом месяце компании TSMC и ASML в числе первых откроют сезон квартальных отчётов, и инвесторы уже с воодушевлением ждут выхода статистики, рассчитывая на хороший рост финансовых показателей обоих эмитентов. Курс акций ASML на фоне таких настроений в начале недели впервые в истории компании на время превысил отметку в 1000 евро за штуку.

Источник изображения: ASML

Нидерландская компания ASML остаётся крупнейшим поставщиком литографических сканеров в мире, они необходимы для производства полупроводниковой продукции, поэтому бум систем искусственного интеллекта закономерно отобразился на росте котировок акций этого эмитента. Позже курс акций ASML опустился до отметки 996,90 евро за штуку, поэтому говорить о закреплении на психологически важной высоте пока не приходится. Всего с начала этого года акции компании выросли в цене на 46 %. Уже сейчас ASML входит в тройку крупнейших по величине капитализации компаний в Европе и является крупнейшим в регионе поставщиком оборудования для выпуска чипов.

Такой динамике накануне способствовал и рост оптимизма инвесторов в отношении компании TSMC, которая, будучи крупнейшим контрактным производителем чипов, является одним из главных клиентов ASML. На апрельской квартальной конференции руководство TSMC признало, что компания собирается в текущем году понести капитальные затраты в размере от $28 до $32 млрд. Квартальный отчёт TSMC будет опубликован 18 июля, статистика за июнь выйдет ещё на этой неделе. ASML успеет отчитаться о результатах квартала 17 июля, так что основные наблюдаемые на рынке тенденции будут выявлены синхронно по результатам публикации квартальной отчётности уже на следующей неделе.

Как поясняет публикация на страницах тайваньского ресурса Commercial Times, прогресс TSMC в расширении объёмов производства чипов по передовым техпроцессам и освоении их новых этапов будет во многом зависеть от способности ASML поставлять новое оборудование. Последняя из компаний собирается снабдить TSMC более чем 60 системами для работы с EUV-литографией, получив от неё за два года не менее $12,3 млрд.

Источник изображения: ASML

Современное литографическое оборудование потребуется TSMC не только для экспансии производства 3-нм продукции, но и для подготовки к началу выпуска 2-нм изделий. Как известно, TSMC неоднократно подчёркивала, что при массовом производстве 2-нм чипов обойдётся без использования более дорогих литографических сканеров High-NA EUV с высоким значением числовой апертуры. При этом агентство Reuters отмечало, что до конца года TSMC всё-таки получит от ASML соответствующее оборудование для использования в исследовательских целях.

Потребность TSMC в литографических сканерах класса EUV источники оценивают в 30 систем в текущем году и 35 в следующем. Сейчас спрос на подобное оборудование значительно превышает предложение, поэтому заказываемый литографический сканер приходится ждать от 16 до 20 месяцев. В следующем году ASML сможет увеличить объёмы выпуска литографических сканеров более чем на 30 %, а потому основная часть поставок придётся на 2025 год. Если в этом году компания рассчитывает отгрузить 53 сканера, то в следующем она собирается выпустить не менее 72 штук. При этом предельная производительность компании по данному типу систем в следующем году достигнет 90 штук.

Кроме того, за следующий год ASML собирается выпустить не менее 600 сканеров для работы с глубокой ультрафиолетовой литографией (DUV), а также около 20 новейших систем класса High-NA EUV. По данным тайваньских источников, в следующем году такие сканеры всё ещё не будут востребованы клиентами для производства чипов в массовых количествах, и будут использоваться преимущественно для экспериментов. Напомним, что Intel является основным претендентом на скорейшее внедрение оборудования High-NA EUV при производстве чипов с использованием технологии Intel 14A, хотя экспериментировать с ним будет ещё в рамках техпроцесса Intel 18A.

TSMC собирается запустить массовое производство 3-нм чипов на предприятии в Тайнане в третьем квартале текущего года. Выпуск 2-нм продукции планируется освоить сразу на трёх тайваньских предприятиях компании в 2025 году. В третьем квартале TSMC также рассчитывает получить от властей США субсидии, которые будут использованы для закупки оборудования для первого предприятия компании в штате Аризона, а также для строительства второго. Поставщики фотомасок и вспомогательного оборудования рассчитывают хорошо заработать на планах TSMC по экспансии производства с использованием передовых техпроцессов.